台积电今年要大规模量产3nm工艺了，三星也是，两家还要在2025年左右量产2nm工艺，对EUV光刻工艺的需求更高，而ASML今年底也会出货新款EUV曝光机NXE：3800E。
ASML是唯一能量产EUV曝光机的公司，而且换代了多次，主要是提升能效及产能，目前最新的型号是NXE：3600D，NXE：3800E计划是年底出货，进一步降低EUV曝光的成本。
NXE：3800E曝光机的曝光能力将达到30mJ/cm2，WPH每小时产能大约是195片晶圆，后续还会提升到220片晶圆/小时，产能比当前型号高出30%以上。
至于售价，NXE：3800E的价格到底多少，目前还没有一个可以证实的说法，但是光是前代EUV曝光机就卖到1.5亿美元以上，这两年还有通胀等因素，价格至少4亿美元起跳。
NXE：3800E曝光机今年底出货的话，考虑到安装、侦错及生产的周期，未来台积电、三星会主要在2nm节点使用，而高NA孔径的下一代曝光机要解决的是1nm及之后的技术。
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