AI PC的重要核心Intel Core Ultra详解,CPU早已不只是CPU!

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谈到电脑、手机等硬件的升级,近几年我们都会用「挤牙膏」来形容新一代产品的性能表现。 确实在一年一更新的节奏下,产品的性能提升通常会维持在10%~20%之间,鲜有突破性进展。 但每次技术上的跃迁,必象征着我们的世界又进入了一个崭新时代。

随着今年AI在个人用户中的爆发式增长,不仅服务器端出现前所未有的超强算力AI GPU加速卡,而且在终端上,电脑的CPU也做到了技术上的全面跃迁,进入AI PC的时代。

CPU早已经不只是CPU

提到CPU,我们的惯性思维,会认为他就是我们电脑的运算核心,我们会非常注重它的性能表现。 但实际上,从十年前开始,我们电脑里的那个「黑疙瘩」,早已不单纯地只具有CPU的功能。

早在2011年,Intel 第二代Core处理器(代号Sandy Bridge)就已经将GPU及相关显示输出接口电路与CPU芯片内置在一个裸晶上。 此外,视频编解码器、信号处理器等各种专用加速单元也被内置入CPU,形成「系统级芯片」,这大幅提升了CPU的处理效率,并减少了对外围芯片的依赖。

不过,随着芯片制造的工艺制程向着越来越精细的尺寸迭代升级,在物理特性上越来越逼近现有材料的性能极限,技术实现越来越困难,芯片制造成本急剧增加。 为了能够内置更多电路,同时又能有效控制良率和生产成本,就出现了Chiplet技术。

Chiplet技术是将一个大芯片拆分为多个小芯片(Chiplet),再通过先进封装内置到一起。 相比之下,SoC技术是在一块晶圆上制造整个系统,而Chiplet可利用不同厂商的制造技术,让各芯片独立优化再组装,完美结合性能与成本。 被业界视为继SoC之后,新一代系统级芯片解决方案。

虽然Intel最新的Core Ultra处理器不是第一款采用Chiplet设计的产品,但这次升级,象征着PC处理器正式进入了一个新的时代。

Core Ultra四芯合一

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Intel最新Meteor Lake架构Core Ultra处理器主要内置了四颗不同制程工艺的小芯片,包括Compute Tile、Graphics Tile、SoC Tile和I/O Tile。

其中Compute Tile部分基于EUV技术的Intel 4制程来制造,而Graphics Tile、SoC Tile和I/O Tile则全部由积电代工,采用台积电5nm和6nm制程生产,最后通过Intel Foveros 3D封装技术将他们连接到一起。

相比历代的单一制程单一晶圆制造,Intel Core Ultra不仅在核心架构上实现了异构整合,而且首次采用了多源晶圆制造的方式。 可以说是Intel在工艺技术和芯片设计上的双重突破。

作为全球最大的半导体公司,Intel一直坚持自主可控的芯片工艺技术。 早期的摩尔定律推动其处理器性能稳步增长,垂直一体化的封闭生态也成为其支配PC产业的基石。

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但是,在芯片制造进10奈米后,Intel工艺技术开始明显落后竞争对手。 曝光机物理极限、介电层难题等障碍大幅拖累其迭代速度。

而TSMC等专注晶圆制造的专业代工厂在7nm/5nm节点上不断突破。 这迫使Intel开始推动战略转型,提出了四年五个工艺节点计划。 即通过在四年内推进Intel 7、Intel 4、Intel 3、Intel 20A和Intel 18A五个制程节点,于2025年重获制程领先性。

在该计划的顺利推动下,Core Ultra处理器中Compute Tile部分使用了Intel 4制程工艺。 同时全新的小芯片设计,在多个制程工艺优势的协同整合下,为Intel重回制程领先争取到宝贵的时间。 而chiplet模式也预示着半导体产业将呈现跨厂商、跨国界的高度协作与共生格局。

Intel历代处理器使用的工艺制程和关键技术:

  • 1971年4004使用10微米PMOS工艺
  • 1978年8086使用3微米HMOS工艺
  • 1985年80386使用1.5微米HMOS工艺,首次引入32位
  • 1989年80486使用1微米工艺,内置晶体管数突破100万
  • 1993年Pentium使用0.8微米BiCMOS工艺
  • 1997年Pentium II使用0.35微米CMOS工艺
  • 2000年Pentium III使用0.18微米Coppermine工艺
  • 2006年Core 2使用65纳米工艺,高K金属栅极
  • 2011年第2代Core,32纳米工艺,CPU内置GPU
  • 2012年第3代Core,22纳米工艺,三栅级FinFET技术
  • 2017年第8代Core,14纳米++工艺,Tick工艺节点出现了较大的延迟
  • 2019年第10代Core,10纳米、14纳米混用
  • 2021年第12代Core,Intel 7(10纳米)工艺,CPU采用性能混合架构,大小核设计
  • 2024年Core Ultra,Intel 4(7纳米)工艺,分离式模块化设计,首次采用多源晶圆制造
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