有消息来源指出，在新世代的iPhone镜头模组上，将很有可能通过新的ALD原子层沉积（Atomic Layer Deposition）薄膜制程，来进一步改善iPhone长久存在甚至已经变成拍摄特色之一的鬼影与耀光问题。
保护贴？不用！沾指纹？不怕！鬼影耀光？不再有！（吗？）没有镀膜没办法解决的事情，如果有，那就继。 续。 进。 化！」
最近才在新世代 M3 MacBook Pro 以及 MacBook Air 外壳采用特殊阳极处理密封技术的涂层，进一步减少指纹沾染外壳的问题的 Apple。 不仅在最新的iPhone机型谣传消息里，被爆料已经准备引进超硬AR层镀膜，可能要让保护贴失去用武之地，进一步提升玻璃耐刮能力。
现在则是有消息来源指出，在新世代的iPhone镜头模组上，将很有可能通过新的ALD原子层沉积（Atomic Layer Deposition）薄膜制程，来进一步改善iPhone长久存在甚至已经变成拍摄特色之一的鬼影与耀光问题。
根据相关技术的数据说明，ALD 原子层沉积薄膜制程技术可以将物质通过每一循环只沉积单层原子膜的方式精准控制厚度。 据称在均匀性、致密性与稳定度都很好，如应用在相机组件则是能进一步将材料层控制在极低的厚度。 目前则是被爆料，很可能就要被运用在次世代 iPhone 的相机镜组抗反射镀膜，进一步改善像是太阳等点光源照射时造成的伪影问题。
讲起来，在目前的 iPhone 15 Pro 系列上，苹果就已经宣称已经有改进耀光的状况。 实际在上市之后的实测中，我们也的确看到相较前代，这次的 iPhone 系列的确针对耀光问题有了相当明显的改善。 只是针对会有叠影状况的「鬼影」问题部分却是依然存在。
一直以来，iPhone 所搭载的摄影系统虽然在 PreRes 录影与 ProRAW 等各方面都持续有对应更专业使用的相关进化。 然而在 iPhone 14 系列之前，大部分人都猜测这个官方始终没有特别说明的鬼影耀光问题，很可能是因为运算式摄影多张合成的需要而无法消除的存在。
然而从 iPhone 15 Pro 系列开始，苹果却带来了对应耀光方面的改进。 进一步改善了强光下容易造成的对比大幅降低问题。 现在看来，虽然现阶段还不能确定参考来源中所谓的「次世代 iPhone」指的是否就是外媒列出的 iPhone 16 Pro 系列新品（可能会等到 iPhone 17 Pro？）。 不过至少能知道，苹果应该是真的开始着手改进，这个可能会阻碍消费者入手 iPhone 的老问题。
